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        LEF100 鐳射系列干膜光阻劑

          LEF100 鐳射系列干膜光阻劑

        LEF100 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,應用于內外層線路制作,特別適用于265nm和405nm激光直接成像系統。

        特色及優點

        高解析度 -1-2 mil 線寬/線距

        曝光速度快

        附著力好

        抗化學性好

        性能穩定

        項目
        單位
        LEF112
        LEF115
        備注
        厚度
        μm
        30
        38

        感度*1
        mj/cm2
        16
        24

        最短顯影時間
        sec.
        20
        22

        附著力*1*2(L/S=X/250)
        μm
        30
        40

        解析度*1*2(L/S=X/X)
        μm
        25
        30

        蓋孔孔徑
        μm
        //
        6.0

        *1:LEF115(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

        *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

        *3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。



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