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        MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

          MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

        MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,特別適用于外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計,在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。

        特色及優點

        極好的貼合度-高良率

        蓋孔能力優異

        顯影后邊墻垂直/電鍍后邊墻垂直

        顯影泡沫少

        高解析度、高附著力

        應用于酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象

        化學物質滲漏少

        堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小

        堿性褪膜速度快

        項目
        單位
        MAH220
        MAH215
        備注
        厚度
        μm
        50
        38

        感度*1
        mj/cm2
        40
        30

        最短顯影時間
        sec.
        32
        25

        附著力*1*2(L/S=X/250)
        μm
        30
        25

        解析度*1*2(L/S=X/X)
        μm
        30
        25

        蓋孔孔徑
        μm
        7.5
        6.5

        *1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

        *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

        *3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。



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